化學鍍鎳工藝的反應機理是用還原劑把溶液中的鎳離子還原沈積在具有催化活性的表面上。為提升化學鎳電鍍液的穩定性,化學鍍鎳工藝進行了升級,即向原來只是鎳鹽和次亞磷酸鈉的混合鍍液中添加合適的絡合劑、穩定劑、促進劑、緩沖劑等,形成穩定很高的混合溶液。
隨著化學鍍工藝的成熟發展,化學鍍鎳廢液的處理的難度也增大,尤其是鎳離子的去除,導致化學鍍鎳廢液難處理的主要成分及作用如下:
鎳鹽:提供Ni2 ,壹般用NiSO4·6H2O。鍍液中Ni2 的濃度為5-7g/L。
還原劑:常用的還原劑有次亞磷酸鹽。采用其作還原劑獲得Ni-P合金鍍層。
絡合劑:絡合劑能與鍍液中的鎳離子形成絡合鎳,控制可供反應的遊離鎳濃度,抑制亞磷酸鎳的沈澱。
對於絡合鎳,湛清研發出新的水處理藥劑—高效除鎳劑,此類除鎳劑無需經過破絡等復雜環節,可與化學鍍鎳廢液中的絡合鎳直接發生螯合反應,產生沈澱,去除率達98%以上,將合約中的總鎳含量處理至0.1mg/L以下,穩定達標排放。
化學鍍鎳廢液中,若不存在絡合劑或絡合劑的量較少時,采用NaOH作為除鎳劑,使鎳離子沈澱為Ni(OH)2除去。對於絡合鎳,用上述辦法也可以沈澱部分鎳,但實驗結果合約中鎳離子含量依舊很高,無法達標排放。